离子镀是结合真空蒸镀和溅射镀两种技术而发展起来的沉积技术。在真空条件下，采用适当的方式使镀膜材料蒸发，利用气体放电使工作气体和被蒸发物质部分电离，在气体离子和被蒸发物质离子的轰击下，蒸发物质或其反应产物在基体上沉积成膜。离子镀的基本过程包括镀膜材料的蒸发、离子化、离子加速、离子轰击工件表面成膜。根据镀膜材料不同的蒸发方式和气体的离化方式，构成了不同类型的离子镀，下表是几种主要的离子镀。离子镀具有镀层与基体附着性能好、绕射性能好、可镀材质广、沉积速率快等优点。
表离子镀的种类及其特点
种类蒸发源离化方法工作环境特点用途
直流放电法 电阻 辉光放电dc:0.1kv～5kv 惰性气体1pa，0.25ma/cm2 结构简单，膜层结合力强，但镀件温升高，分散性差！耐热，润滑等镀件
弧光放电法 电子束、灯丝 弧光放电dc:100v高真空1.33x10-4pa 离化率高，易制成反应膜，可在高真空下成膜，利于提高质量 切削工具、金属装饰等镀件
空心阴极法 空心阴极 等离子体电子束dc:0v～200v惰性气体或反应气体 离化率高，蒸发速度大，易获得高纯度膜层 装饰、耐磨等镀件
调频激励法 电阻、电子束 射频电场13.56mhzdc:0.1kv～5kv惰性气体或反应气体 离化率高，膜层结合力强，镀件温升低，但分散性差 光学、半导体等镀件
电场蒸发法 电子束 二次电子dc:1kv～5kv真空 不纯气体少，能形成较好的膜 电子元件
多阴极法  电阻、电子束热电子dc:0v～5kv惰性气体或反应气体低速电子离化效果好 装饰、电子、精密机械等零件
聚焦离子束法电阻聚集离子束dc:0v～5kv惰性气体 因离子聚束，膜层结合力强 电子元件
活性反应法电子束二次电子dc:200v反应气体o2、n2、ch4、c2h4等 金属与反应气体组合能制备多种倾倒物膜层电子、装饰、耐磨等镀件。