为了满足镀制各种多层薄膜及复合化合物薄膜的要求，多功能复合离子镀膜机已成为目前研究发展的方向和热点。复合离子镀膜机采用孪生靶的先进技术，克服直流溅射固有的靶中毒、打火等不良弊病，可以镀制诸如AL2o3,SiO2氧化优质膜，使镀件的抗氧化耐蚀性能又有所提高和改善。
复合离子镀膜机的中心安装柱状多弧靶，靶材为钛或锆。它不但能保持多弧技术离化率高、沉积速率高的特点，还能有效地降低小平面多弧靶沉积过程中很难避免的“液滴”的缺陷，从而可以制备出低孔隙率的金属薄膜或化合特薄膜；在周边安装了孪生平面磁控靶，靶材为铝或硅，可以镀Al2O3,SiO2金属陶瓷膜；中外，在周边安装多个小平面多弧蒸发源，靶材为铬或镍，可以镀制多层金属膜和多层复合膜。
复合式离子镀膜设备由于具有多种不同形式镀膜装置及不同材质的蒸发源及发射靶，它们既可以独立地分别工作又可以同时工作，既能制备纯金属膜又能制备金属化合物膜或复合材料膜；既能制备单层薄膜又能制备多层复合膜，用途极其广泛。
多弧离子镀技术以其特有的优点获得了广泛的应用。随着科技和生产的发展，将继续开拓其应用领域。根据当前的状况，这项技术将会在下述方面产生较大发展：
1）新型、高效的可控弧靶，包括新型供电电源；
2）除直流以外的其他形式偏压电源；
3）与非平衡磁控溅射技术结合的新型蒸发器；
4）多样的整体结构形式；
5）通过计算机辅助设计和控制实现工艺的多样化